磁力针磨洋浦经济开发区抛光机粗抛后磨面光滑,但黯淡无光,在显微镜下观察有均匀细致的磨痕,有待精抛消除。精抛时转盘速度可适当提高,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜,在显微镜明视场条件下看不到划痕,但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机设备抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构,已逐步引起有关专家的重视。
近年来,国内外在磁力针磨抛光机设备的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新机型、新一代的抛光设备,正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动洋浦经济开发区磁力抛光机设备。